埼玉新聞

 

ファーウェイ1・4ナノ水準計画 31年までに半導体の設計

  •  華為技術(ファーウェイ)のロゴ=2025年6月、パリ(ロイター=共同)

     華為技術(ファーウェイ)のロゴ=2025年6月、パリ(ロイター=共同)

  •  華為技術(ファーウェイ)のロゴ=2025年6月、パリ(ロイター=共同)

 【上海共同】中国通信機器大手、華為技術(ファーウェイ)は8日までに、独自の新技術を活用し2031年までに回路線幅1・4ナノメートル(ナノは10億分の1)相当と同水準の半導体を設計する計画を明らかにした。ファーウェイは米国の半導体輸出規制の影響で、先端半導体の調達が制限されてきたが、同水準の性能の半導体を中国国内で製造することを目指す。

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